實(shí)踐證明深紫外光刻工藝深受多種類(lèi)微量污染物的影響，對(duì)很多微量污染物極為敏感，比如氨氣或者酸性氣體都會(huì)給半導(dǎo)體生產(chǎn)帶來(lái)極大的危害，盡管隨著深紫外耐腐蝕材料技術(shù)的發(fā)展，已經(jīng)減少了長(zhǎng)時(shí)間持續(xù)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，而實(shí)際