目前國內(nèi)材料電壓擊穿試驗儀采用的光耦隔離方式，但光耦與隔離無非是提高儀器的采集的抗干擾處理。對于電弧放電過程中的浪涌對控制系統(tǒng)的防護(hù)起不到任何作用。這也就是國產(chǎn)儀器維護(hù)率過高的主要原因。而華測獨立開發(fā)