設(shè)備簡介 :隨著電子產(chǎn)品的高糯密度微小化的發(fā)展,電子回路板(PCB )以及周邊電路( FPC )的距離和寬度已經(jīng)精確到了數(shù)10μm-下,半導(dǎo)體線路5NM以下。甚至-些更高精密度的產(chǎn)品要求達(dá)到了10um 以下,半導(dǎo)體線路5NM以下。在如此精密的生產(chǎn)加工中,即使是因為表面處理過程中產(chǎn)生的數(shù)μ m的粗糙面也會對電路的高精密度和高周波特性等產(chǎn)生損害。
UV夏氧處現(xiàn)法采用氣體清洗法不會對表面的平滑性帶來任何損壞??梢杂行У那宄矬w表面細(xì)小的油脂及有機(jī)物。而其他的處理方法會使物體表面產(chǎn)生席蝕孔,會使表面變粗糙。
UV光清洗被廣泛運(yùn)用于液晶,觸屏,OLED,印刷電路板,半導(dǎo)體/電子產(chǎn)品等清洗過程。我司的UV表面處理方式對產(chǎn)品表面沒有任何損傷,可以迅速的對表面進(jìn)行改質(zhì),清洗處理。
各種手機(jī)等細(xì)微PCB基板及半導(dǎo)體器件的清洗工程中采用的裝置 中型抽屜式以及小型電子設(shè)備生產(chǎn)用裝置 傳送帶量產(chǎn)型裝置 兩面照射和其他特殊設(shè)備 中型抽屜式以及小型電子設(shè)備生產(chǎn)用裝置 中型抽屜式以及小型電子設(shè)備生產(chǎn)用裝置 Roll to roll 大型液晶玻璃清洗裝置(有效照射長度2.5m)