TDLS激光微量氣體分析儀 EDK 6900S系列
NH3 /CH4/HF /HCl /CO2/H2O等
原理
EDK系列產(chǎn)品采用增強(qiáng)型TDLS技術(shù)，0,1nm的掃描波長，避免目標(biāo)被測氣體吸收波長的交叉干擾，也可稱為“指紋光譜”，可實(shí)現(xiàn)高分辨率的近紅外吸收測量。電子鎖相技術(shù)實(shí)現(xiàn)從光電信息中提取并分離出被測氣體的吸收信息，此種檢測方法，不需要物理參考池，且提供了連續(xù)的傳感器狀態(tài)監(jiān)測。EDK TDL6900系列產(chǎn)品提供了高精度、低檢測限的解決方案，儀器具有對(duì)被測氣體高準(zhǔn)確度選擇性進(jìn)行非接觸式測量、免標(biāo)定、低成本、易操作等特點(diǎn)。
EDK TDL6900系列產(chǎn)品可以輕松測量一些常規(guī)方式不易測量的微量氣體，比如NH3、CH4、CO2、H2O等，這些氣體的監(jiān)測與分析在很多工業(yè)場合至關(guān)重要。高靈敏度和寬的動(dòng)態(tài)量程，是可調(diào)諧半導(dǎo)體激光器光譜（TDLS）技術(shù)的基本特性，可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。
| 典型應(yīng)用 | 系列產(chǎn)品 |
|---|---|
| √ CH4甲烷 垃圾填埋 | EDK 6901 A – 大氣微量CH4監(jiān)測 |
| √ 生物氣/沼氣分析監(jiān)測 | EDK 6902 A - 大氣微量CO2 監(jiān)測 |
| √ 連續(xù)污染物排放監(jiān)測 | EDK 6903 A - 大氣微量 NH3 監(jiān)測 |
| √ 逃逸排放 | EDK 6903 H - 高溫高濕氣中微量NH3監(jiān)測 |
| √ 天然氣監(jiān)測與分析 | EDK 6904 H - 高溫高濕氣中微量HCl 監(jiān)測 |
| √ 農(nóng)業(yè)領(lǐng)域 | EDK 6900 X - CH4/NH3、 CO2 (NDIR)、O2 (ECD) |
| √ 工業(yè)過程控制 | |
| √ 煙氣脫硝 SCR/DeNOx | |
| √ 氣候變化研究 | |
| √ 環(huán)境研究 | |
| √ 呼吸分析 |
優(yōu)勢
· 超高靈敏度
· 功能安全、持續(xù)狀態(tài)報(bào)告
· 長壽命（+10年）
· 快速響應(yīng)
· 低功耗
· 低成本方案（無耗材、備品備件、無需再標(biāo)定）
· 優(yōu)秀的低成本元器件決定低成本傳感器
· 19”安裝支架
· 友好的人機(jī)界面
· 數(shù)據(jù)存儲(chǔ)與日志
· 可擴(kuò)展的多點(diǎn)采樣系統(tǒng)
· 零點(diǎn)&寬量程校正
· 傳感器狀態(tài)自檢
技術(shù)參數(shù)
| 目標(biāo)氣體 | 檢測限 | 典型量程 |
|---|---|---|
| NH3, (H2O) 氨 *** | ||
| (高溫高濕工況) | 0.8 ppm | 0 – 20, 50, 100, (500) ppm |
| HCl, (H2O) *** | ||
| (高溫高濕工況) | 0.8 ppm | 0 – 50, 100, (500) ppm |
| NH3 氨 | 0.4 ppm | 0 – 100 (500) ppm |
| CH4 甲烷 | 0.4 ppm | 0 – 100 (40'000) ppm |
| CO2 二氧化碳 | 4.0 ppm | 0 – 1000 (300’000) ppm |
| * 其他氣體可定制 | ||
| ** 檢測限是在恒溫恒壓恒濕20°C, 1013 hPa、50 ± 1.5 % r.H.條件下。 系統(tǒng)溫度的突然變化導(dǎo)致的檢測限變化要快于濃度的變化，*** 基于光譜原因，檢測限隨著高溫增加而會(huì)降低，比如 NH3 @ 190°C. | ||
| 準(zhǔn)確度 | ± 2%FS 根據(jù)積分穩(wěn)定性（溫度&壓力）而定 | |
| 精度 | 根據(jù)氣體而定 | |
| 零漂 | 超過兩小時(shí)每周期---在準(zhǔn)確度內(nèi) | |
| 量程漂移 | 超過八小時(shí)每周期---在準(zhǔn)確度內(nèi) | |
| 溫度誤差 | < 0.1 讀數(shù)/°C | |
| 線性/重復(fù)性 | < ± 2% | |
| 交叉干擾 | 由混合氣體定，或者根據(jù)實(shí)際工況 | |
| 顯示分辨率 | 0.1 ppm | |
| 刷新率 | 1s (可設(shè)置，最多120 s) | |
| T90時(shí)間 | 2s (@氣量3 L/min) | |
| 環(huán)境溫度補(bǔ)償 | -10 ~65°C (盡可能小的溫度波動(dòng)) | |
| 樣氣濕度 | %濕度，根據(jù)工況，需要輸入標(biāo)定，通過外擴(kuò)補(bǔ)償壓力、溫度或混合氣體濃度，可定制 | |
| 樣氣量 | 5(1)L/ min; 標(biāo)定時(shí)3L/min | |
| 供電 | VAC220-230/115 50/60 Hz | |
| 外殼 | 19’’ 標(biāo)準(zhǔn)機(jī)架安裝（深500mm） | |
| 防爆等級(jí) | ExdII CT4, ExdII CT5,(可定制) | |
| 氣路接口 | 世偉洛克 Φ6 mm | |
| 測量方式 | 原位抽取 | |
| 采樣泵 | Internal內(nèi)置 | |
| 模擬輸出 | 4-20 mA 電流環(huán)(無隔離) | |
| 端口 | Ethernet網(wǎng)口 | |
| 顯示器 | 5.7” 觸摸屏 | |
| 數(shù)據(jù)存儲(chǔ) | 通過USB口 | |
